Европейские микросхемы могут быть не хуже "китайских"

В марте этого года расположенный в Гренобле институт CEA-Leti - Европейский центр разработки полупроводниковых и других технологий - предложил национальную программу поддержки европейских разработчиков полупроводников.

Программа Silicon Impulse даёт возможность завершить цикл разработки решений в Европе, включая выпуск изделий не в далёком Китае, а рядом - по-домашнему. Глобализация вывела за скобки европейские компании полупроводникового сектора, но остатки былых наработок всё ещё позволяют Европе грозно бряцать пробирками .

На днях в программу Silicon Impulse внесено интересное дополнение. Сообщается, что теперь европейским разработчикам будет доступен 28-нм техпроцесс с применением подложек SOI с полностью обеднённым изолятором (fully-depleted silicon-on-insulator, FD-SOI). По слухам, подобные подложки может широко использовать компания Samsung при производстве 14-нм однокристальных схем для умных часов Apple Watch. В общем случае использование подложек с полностью обеднённым изолятором снижает токи утечки и повышает энергоэффективность микросхем и решений.

Слева структура транзистора на обычной кремниевой подложке, а справа на пластине FD-SOI

Слева структура транзистора на обычной кремниевой подложке, а справа на пластине FD-SOI

Производителем микросхем по программе Silicon Impulse с использованием подложек FD-SOI будет компания STMicroelectronics. Следует уточнить, что в Европе среди местных разработчиков осталось очень мало клиентов, которые могли бы самостоятельно заказать и оплатить коммерчески выгодные объёмы производства полупроводников в Европе (организовать производство в Китае - без проблем). Поэтому программа Silicon Impulse предусматривает возможность собрать для размещения на одной пластине заказы нескольких компаний. Это так называемое челночное MPW-производство (multi-project wafer, мультипроектные пластины). Компания STMicroelectronics, например, организует производство по таким проектам четыре раза в год. Первое производство с 28-нм техпроцессом на пластинах FD-SOI будет запущено в феврале 2016 года.

Преимущества использования подложек FD-SOI по сравненнию с обычными пластинами

Преимущества использования подложек FD-SOI по сравнению с обычными пластинами

Добавим, программа Silicon Impulse включает все этапы сопровождения разработки - от проектирования микросхем с использованием пакетов компаний Synopsys и Mentor Graphics до верификации проектов, производства и тестирования готовых изделий. Также в помощь разработчикам предоставляется возможность лицензировать готовые блоки от ядер ARM до интегрированных модулей различной функциональности вплоть до радиочастотных цепей.

Читайте также:

Hi-Tech → Американцы представили рой военных мини-дронов

Hi-Tech → В России разработают тяжелый океанский экраноплан

Авто → Разработчики ГАЗ начали создавать беспилотные авто

Авто → Audi R8 отказали в турбонаддуве

Hi-Tech → Honda представила свой первый самолет

シ Обязательно поделись ссылкой с друзьями! ٩(^‿^)۶✉ Мы очень рады видеть Вас, на нашем сайте столько раз — 60005841 ツ